摘要離子濺射儀（非磁控）/中西器材 型號:HFD-12庫號：M363288 查看hh注明：本型號和非磁控差不多，沒有鏈條設計的，需要把蓋拿起來放在旁邊，再放樣品 簡介： 此款小型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制...

摘要 小型離子濺射儀/只能濺射　 型號:BZ19-SBC-12庫號：M121692 主要性能指標：玻璃處理室：Φ100mm、高度130mm試樣臺尺寸：Φ40mm可同時放6個樣品杯金靶尺寸：Φ58mm

摘要 Q300T D Plus大腔室雙靶離子濺射鍍膜儀

摘要 Q300T ES Plus大腔室高真空離子濺射和熱蒸發一體化鍍膜儀

摘要 SC7620 緊湊型離子濺射鍍膜儀

摘要CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀，是電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。觸摸屏操控，配方可編程，保證結果可重復；具有斷電時系統自動排氣功能，防止系統被機械泵油污染。標配膜厚監測裝置；主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間；在對樣品進...

摘要CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統專為滿足電鏡樣品制備領域及材料科學薄膜應用的要求而設計。CCU-010 HV 高真空濺射儀采用優質組件和智能設計，可在超高分辨率應用中提供出色的結果。 標配抽真空系統無油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位于內部。標配FTM膜厚監測...

摘要CCU-010 HV為一款結構緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后，可選進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-01...

摘要CCU-010 LV普通真空鍍膜系統專為SEM和EDX的常規高質量濺射鍍膜和鍍碳而設計。它是一款結構緊湊、全自動型的離子濺射和/或蒸發鍍碳設備，使用非常簡便。采用的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后，可選進行等離子處理。...

摘要 SD-900型離子濺射儀是采用二級（DC）直流濺射原理設計而成的離子濺射鍍膜設備

摘要 韓國SAM公司離子濺射儀

摘要 COWAQ S150RTL-1自動真空磁控離子濺射鍍膜儀

摘要 日立離子濺射儀MC1000 Ⅱ

摘要 離子濺射儀是為電鏡制樣設計的離子濺射噴金儀，實現離子在樣品表面濺射,形成金屬薄膜

摘要 JY-S100離子濺射儀是一款結構緊湊的桌上小型鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜

摘要天澤智能 電鏡離子濺射儀耗材Eponate 12™環氧樹脂包埋套裝是美國TedPella公司產品。配比與Pon812相同。其黏度為25℃時是15-21cP，比重為1.15-1.22g/ml，聚合時間：60°C下16-24小時，若使用微波處理儀...

摘要此款TZZN-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩定，操作簡單方便。采用磁控冷態濺射，基本不升溫，保護樣品。主要特點:² 顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；&...

摘要 產品介紹INTRODUCTION特點FEATURES簡單、經濟、可靠、外觀精美

摘要 主要性能指標：玻璃處理室：Φ100mm、高度130mm試樣臺尺寸：Φ40mm可同時放6個樣品杯金靶尺寸：Φ58mm真空系統：直聯旋片真空泵2L／S真空檢測：皮氏計真空保護：20Pa配有微量充氣閥調節工作真空工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣

摘要 IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡便，無需通入特殊氣體，使用時只需設置噴鍍時間即可

摘要 VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀，基片尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式

摘要 GSL1100X-SPC16-3等離子3靶濺射儀是一款經過CE認證的緊湊型等離子鍍膜機

摘要 GSL-1100X-SPC-16M是一款緊湊型的磁控等離子濺射儀，采用雙旋片機械泵進行抽真空

摘要 型號：JS-1600離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，、可靠、經濟的鍍膜設備

摘要 產品說明：本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器

摘要 特點：由白噪聲信號發生器、粉紅噪聲信號發生器、－3dB/oct濾波器和壓縮放大器四部分組成，具有小型、輕便、功能齊全的特點，廣泛應用于電聲學、建筑聲學、振動音響設備等方面

摘要 VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型)，基片尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式

摘要 VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀，其靶頭尺寸為2英寸，并且樣品臺的高度可以調節

摘要 GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜

摘要 描述全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等濺射電流自動調整設定濺射電流后，系統自動調節真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜5%；無需按實驗鍵調整濺射電流、無需操作進氣閥

摘要 描述基本無溫升、樣品表面無熱損失GVC-2000制樣效果圖其他制樣設備效果圖上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片

摘要天澤智能 標準離子濺射鍍膜儀 自動控制主要應用：適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜、鉑金、銀、鎳、銅等），儀器操作簡單方便，是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣儀器。是制備低維度，小尺寸納米材料器件實驗手段，廣泛應用于集成電路，光子晶體，低維半導體、微生物、超微膜...

摘要TZZN-1000磁控離子鍍膜儀 離子濺射儀主要應用：適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜、鉑金、銀、鎳、銅等），儀器操作簡單方便，是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。是制備低維度，小尺寸納米材料器件實驗手段，廣泛應用于集成電路，光子晶體，低維半導體、微生物、超...

摘要 一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜。

摘要GVC-1000直流離子濺射儀 在結構設計及人機界面方面更加注重人性，簡單智能； 對于SEM樣品常規適用黃金濺射； 能夠極為有效的提供樣品的導電性及導熱性； 減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷，顯著提供掃描電...

摘要 GVC-2000磁控離子濺射儀 全自動控制，無需調整針閥鍍膜顆粒小，無熱損傷靶材更換非常簡單特殊密封結構，玻璃不易損壞內置操作向導，無需培訓即可熟練操作

摘要 108是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜

摘要 應用于掃描電子顯微鏡（SEM)樣品噴鍍的離子濺射儀/噴碳儀與普通電源、真空控制基座組成一個有機的整體·濺射儀（噴金儀）和噴碳儀合二為一，提高了整機的性價比！·操作便利的長形工作臺有效地節省了空間

摘要 SP-010濺射模塊主要配置與CUU-010HV高真空離子濺射儀所進行使用，此款模塊結構簡單可靠，具備在高真空下進行高質量濺射鍍膜需要，此模塊把磁控管、靶材、擋板、工藝壓力調節器和電源器件整合到一個的、耐用的裝置中，裝置準備就緒，隨時可以運行，并且便于維護

摘要 離子濺射儀集合了二極濺射模式之精華，并經重新定義設計，的電流與真空度記錄曲線相結合可以進行常規的樣品制樣，還可以滿足各種復雜特殊材料的樣品制備要求，對于高分子薄膜，地質材料，半導體材料等各種樣品的制備可以輕松應用

摘要 Agar全自動噴金儀（離子濺射儀）為英國進口離子濺射儀設備，操作簡單，適用于掃描電鏡樣品制備，可噴金、鉑、金/鈀、鉑/鈀、銀等

摘要 智能模塊化設計CCU-010是一種緊湊型全自動高真空離子濺射儀，同時可以通過更換靶頭作為高真空碳鍍膜機進行使用，使用非常簡單

摘要 GVC-2000離子濺射儀 濺射電流與壓力無關、基本沒有熱損傷；在較好的真空、較低的電壓下即可獲得較大的電流；更適用場發射等高分辨觀電極制備。

摘要GVC-1000離子濺射儀 在結構設計及人機界面方面更加注重人性，簡單智能； 對于SEM樣品常規適用黃金濺射； 能夠極為有效的提供樣品的導電性及導熱性； 減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷，顯著提供掃描電鏡觀...

摘要 GVC-1200離子濺射儀 易于使用的基本濺射涂布機； 設備內置操作向導，在操作人員更換時，無需培訓，即可快速熟練操作設備； 實體按鍵，安全。