摘要 IBE離子束刻蝕系統(tǒng)北京特博代理美國IBE離子束刻蝕系統(tǒng)--功能強大----科研

摘要 上海伯東日本*小型 Hakuto 離子蝕刻機, 適用于科研院所, 實驗室研究, 干式制程的微細加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.

摘要 上海伯東日本*適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的 Hakuto 離子刻蝕機, 樣品臺可選直接冷卻 / 間接冷卻

摘要 上海伯東日本*適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J

摘要 上海伯東日本*適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究的離子蝕刻機, 一般通氬氣 Ar, 無污染, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當前氣體成分, 判斷刻蝕情況.

摘要 Leica EM ACE900 冷凍斷裂系統(tǒng)在一臺儀器中對樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。通過旋轉冷凍式載臺，利用電子束進行高分辨率碳/金屬復合鍍膜，適用于任何TEM和SEM分析，可提供靈活的投影選擇。

摘要 刻蝕設備PlasmaPro1000 Astrea新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蝕設備，該設備可以為PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蝕提供解決方案，有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。

摘要JBX-6300FS的電子光學系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達5nm）的圖形。此外，該光刻系統(tǒng)還實現(xiàn)了9nm以下的場拼接精度和套刻精度，性能比。利用最細電子束束斑（實測值直徑≦2.9nm）...

摘要 JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發(fā)及生產(chǎn)。

摘要 JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統(tǒng)?

摘要 JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統(tǒng)。

摘要 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過的設計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。

摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設計與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小，專業(yè)的機械設計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復...

摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設計的高性價比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設計與靈活的配置方案，獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小，專業(yè)的機械設計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復...

摘要 二手刻蝕機OXFORDPLASMALAB800PLUS，反應離子刻蝕機（RIE），可對尺寸為5英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 OXFORDIONFAB300PLUS二手刻蝕設備，多模式離子束刻蝕系統(tǒng)，可對4-8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 OXFORDNGP1000TR二手刻蝕機現(xiàn)貨，2011年設備，隨時可以發(fā)貨

摘要 OXFORDPLASMALAB二手刻蝕機現(xiàn)貨供應，反應離子刻蝕設備，隨時發(fā)貨

摘要 OXFORDPLASMALAB133二手刻蝕機，2006年RIE干法蝕刻設備

摘要 二手刻蝕機OXFORDPLASMALAB80PLUS，RIE蝕刻系統(tǒng)，2003年設備，可對8英寸晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 OXFORDPLASMALAB90PLUS二手刻蝕機現(xiàn)貨，RIE刻蝕系統(tǒng)，打包封裝完成，隨時可以發(fā)貨

摘要 MATTSONASPENII二手刻蝕機，1995年設備，雙室ICP刻蝕系統(tǒng)，已打包封裝完成，可隨時發(fā)貨

摘要 MATTSON二手刻蝕機ASPENIII，2006年設備，lightetcher，可對12英寸晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 MATTSONASPENIIINEXION二手刻蝕機現(xiàn)貨,已經(jīng)拆解并打包封裝完成，隨時可以發(fā)貨，支持技術修改、調(diào)試和售后維修

摘要 二手刻蝕機MATTSONPARADIGM，PRAsher設備，雙工作腔室，可對尺寸為12英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理，已拆卸和打包完成，可隨時發(fā)貨

摘要 MATTSONPARADIGMEE二手刻蝕機，打包封裝完成，隨時可以發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機MATTSONPARADIGMESI，2011年設備，可對尺寸為12英寸的晶圓進行刻蝕工藝加工處理

摘要 二手刻蝕機MATTSONSUPREMAIM，2012年設備，可對12英寸大小的晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨供應MATRIX102/105,打包封裝完成，隨時發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨MATRIX105，Plasmaasher設備，可對尺寸大小為6英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 二手刻蝕機MATRIX205，采用干法刻蝕，可對6英寸大小的晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 MATRIX303二手刻蝕機,等離子氧化刻蝕系統(tǒng)，可對尺寸為2~6英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 MATRIXCHEETAH200刻蝕機二手現(xiàn)貨，Plasmaasher設備，正常運行，打包封裝完成，可隨時發(fā)貨

摘要 MATRIXJAGUAR300MM刻蝕機二手現(xiàn)貨供應，2000年設備，可對尺寸大小為12英寸的晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 MATRIXPLATEMATEPLUS二手刻蝕機，打包封裝完成，隨時可以發(fā)貨

摘要 MATRIXSYSTEM10二手刻蝕機，反應離子刻蝕RIE、Plasmaasher雙模式，可對6-8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 MATRIX二手刻蝕機SYSTEMONE，Plasmaasher設備，可對6英寸大小的晶圓進行加工處理

摘要 二手刻蝕機MATRIXSYSTEMONE103，可對50mm~150mm尺寸的晶圓進行蝕刻工藝加工

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨供應MATRIXSYSTEMONE106，1995年設備，可對4-6英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年設備，可對尺寸為5英寸的晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 刻蝕機二手現(xiàn)貨供應AXCELIS/FUSION200ACU，2004年asher設備，可對8英寸的晶圓進行工藝處理

摘要 AXCELIS/FUSION200MCU二手刻蝕機，1993年設備，可對8英寸晶圓進行蝕刻工藝加工處理

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨供應AXCELIS/FUSION300MM，打包封裝完成，可隨時發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機現(xiàn)貨AXCELIS/FUSIONES3，2001年Plasmaasher設備，可對12英寸大小的晶圓進行蝕刻工藝處理

摘要 AXCELIS/FUSIONG03刻蝕機二手現(xiàn)貨，Ozoneasher設備，打包封裝完成，可隨時發(fā)貨